YH-PL10新型真空等離子清洗機廣泛應用于：
等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機污染物、油污或油脂。

等離子處理機產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無(wú)污染。 
2、廣適性：不分處理對象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理；
3、溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(cháng)保存時(shí)間和較高表面張力。
4、功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能； 
5、低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì )大大低于濕法清洗。
6、全過(guò)程可控工藝：所有參數可由PLC設置和數據記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。
7、處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小，簡(jiǎn)單或復雜，部件或紡織品，均可處理。