低溫等離子處理設備雖然整體表現的溫度并不高，但其內部因質(zhì)量較輕而高速運動(dòng)的電子溫度卻很高，能量很大。在低溫等離子體中除了處于高速運動(dòng)狀態(tài)的電子外；還存在大量處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等活性粒子。利用低溫等離子體中這些處在激發(fā)狀態(tài)下的物質(zhì)，可對各種材料表面作各種處理，而不傷及物質(zhì)原有的本質(zhì)特征。近年來(lái)，低溫等離子體表面處理技術(shù)正被各行各業(yè)所廣泛應用，取代傳統濕法表面處理，取得了良好的經(jīng)濟效益與絢麗多彩的科技成果。

產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：
☆ 可選配多種類(lèi)型噴嘴，使用于不同場(chǎng)合，滿(mǎn)足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；
☆ 具有RS485/232數字通訊口和模擬量控制口，滿(mǎn)足客戶(hù)多元化需求。
☆ 設備尺寸小巧，方便攜帶和移動(dòng)，節省客戶(hù)使用空間；
☆ 可In-Line式安裝于客戶(hù)設備產(chǎn)線(xiàn)中，減少客戶(hù)投入成本；
☆ 使用壽命長(cháng)，保養維修成本低，便于客戶(hù)成本控制；
☆ 主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理，手機屏幕的表面處理；國防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉移印刷前處理等。

產(chǎn)品參數：
名稱(chēng)：噴射型AP等離子處理系統
型號：CRF-YHB1
電源：220V/AC,50/60Hz
功率：1000W/25KHz
處理高度：5-15mm
處理寬幅：1-6mm（Option）
內部控制模式：數字控制
外部控制模式：RS485/RS232數字通訊口、 模擬量控制口
工作氣體：Compressed Air （0.4mpa）