低溫等離子處理設備一般可分為真空低溫等離子處理設備和常壓低溫等離子處理設備兩大類(lèi)。
一、真空低溫等離子體處理設備
 真空低溫等離子體處理設備是一種在低氣壓工作環(huán)境下，根據所需處理工件的處理目的不同，可通入各種與工件表面發(fā)生反應的化學(xué)元素氣氛，并饋入不同頻率、不同功率的電壓使這些氣氛被激發(fā)電離，這些被電離的、帶有很高能量的電子和粒子對工件表面進(jìn)行反應，達到對工件表面清洗、活化、刻蝕和沉積的作用，這些帶正負粒子的離子化氣體由于其正負電荷總量平衡，所以總體上呈電中性，由這種等離子體與工件表面反應后所產(chǎn)生的、漂浮在腔體內的新的粒子將被為維持腔體內真空度而不斷運轉的真空泵抽出真空腔體，也即：低溫等離子體處理過(guò)程中產(chǎn)生的微觀(guān)污染物會(huì )被真空泵不斷抽出腔體。

真空低溫等離子處理設備的特點(diǎn)：
  1、高能量的低溫等離子體處理。
  2、電中性、無(wú)靜電的處理空間。
  3、根據不同的氣氛組合，可實(shí)現多樣化的工藝效果。
  4、對工件結構無(wú)特殊要求，能做到全方位3D處理。
  5、清洗功能可真正實(shí)現無(wú)殘留，徹底超凈化。

二、常壓低溫等離子體處理設備
    常壓低溫等離子體處理設備是一種在常壓大氣工作環(huán)境下，產(chǎn)生各種等離子焰體的設備。阿爾銘晟用國外最先進(jìn)的技術(shù)，根據各個(gè)行業(yè)的不同用途、不同處理材料和工件外形，開(kāi)發(fā)設計制造了諸如：射流低溫等離子體處理設備、DBD介質(zhì)阻擋放電等離子處理設備、滑動(dòng)電弧低溫等離子體處理設備等等，以適應各種不同的工藝需求，詳見(jiàn)阿爾銘晟網(wǎng)站中的“產(chǎn)品展示”欄所示。

常壓低溫等離子處理設備的特點(diǎn)：
  1、去除了復雜的真空系統，價(jià)格較低，使用靈活，作業(yè)便捷。       
  2、適用于在線(xiàn)式生產(chǎn)現場(chǎng)，便于實(shí)現自動(dòng)化作業(yè)，容易與客戶(hù)原有的自動(dòng)化流水線(xiàn)配套。
  3、具表面清洗、活化、粗化功能，不適合需要做沉積、接枝的表面處理。
  4、維護簡(jiǎn)單，方便。