微電子工業(yè)中的清洗是一個(gè)很廣的概念，包括任何與去除污染物有關(guān)的工藝。通常是指在不破壞材料表面特性及電特性的前提下，有效地清除殘留在材料上的微塵、金屬離子及有機物雜質(zhì)。目前已廣泛應用的物理化學(xué)清洗方法，大致可分為兩類(lèi)：濕法清洗和干法清洗。
濕法清洗在現階段的微電子清洗工藝中還占據主導地位。但是從對環(huán)境的影響、原材料的消耗及未來(lái)發(fā)展上看，干法清洗要明顯優(yōu)于濕法清洗。
干法清洗中發(fā)展較快、優(yōu)勢明顯的是等離子體清洗，等離子體清洗已逐步在半導體制造、微電子封裝、精密機械等行業(yè)開(kāi)始普遍應用。
    等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的清洗。
等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：容易采用數控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。
    在微電子封裝的生產(chǎn)過(guò)程中，由于指印、助焊劑、各種交叉污染、自然氧化等，器件和材料表面會(huì )形成各種沾污，包括有機物、環(huán)氧樹(shù)脂、光刻膠、焊料、金屬鹽等。這些沾污會(huì )明顯地影響封裝生產(chǎn)過(guò)程中的相關(guān)工藝質(zhì)量。使用等離子體清洗可以很容易清除掉生產(chǎn)過(guò)程中所形成的這些分子水平的污染，保證工件表面原子與即將附著(zhù)材料的原子之間緊密接觸，從而有效地提高引線(xiàn)鍵合強度，改善芯片粘接質(zhì)量，減少封裝漏氣率，提高元器件的性能、成品率和可靠性。國內某單位在鋁絲鍵合前采用等離子體清洗后，鍵合成品率提高10％，鍵合強度一致性也有提高。歡迎來(lái)電，來(lái)樣品做實(shí)驗。