科研用真空等離子設備，又稱(chēng)之為真空等離子清洗機/等離子表面處理設備。

產(chǎn)品用途：
真空等離子設備適用于實(shí)驗室科研、小批量生產(chǎn)，是小部件納米清洗、表面活化、表面改性的理想選擇。

應用領(lǐng)域：
真空等離子設備 適用于PCB 制造、半導體/LED制造、TSP/OLED 設備、真空等離子噴涂系統。

功能特點(diǎn)：
1、配置安全可靠
   • 靈活易用的鋁滑動(dòng)門(mén)
   • 電磁安全屏蔽保護
   • 采用氣浴電極
   • MFC精密控制流量
   • 多路氣體通道

2、性能優(yōu)越
  • 極低真空度、快速處理
  • 真空室等離子體分布均勻
  • 絕佳的可重復性
  • 多種型號供選擇
  • 自由配置，最貼心的定

3、靈活使用，功能廣泛
  • 表面清潔 (Plasma Cleaning)
  • 表面活化 (Plasma Activation)
  • 表面蝕刻 (Plasma Etching)
  • 表面涂層 (Plasma Coating)
  • 表面鈍化 (Plasma

相信通過(guò)上面介紹，你已經(jīng)了解了科技用小型真空等離子清洗機的功能特點(diǎn)。