等離子清洗機工作原理分析： 

電漿與材料表面可產(chǎn)生的反應主要有兩種，一種是靠自由基來(lái)做化學(xué)反應，另一種則是靠等離子作物理反應，以下將作更詳細的說(shuō)明。

 （1）化學(xué)反應（Chemical reaction） 在化學(xué)反應里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基，其方程式為： 這些自由基會(huì )進(jìn)一步與材料表面作反應。 

其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來(lái)與材料表面做化學(xué)反應，在壓力較高時(shí)，對自由基的產(chǎn)生較有利，所以若要以化學(xué)反應為主時(shí)，就必須控制較高的壓力來(lái)近進(jìn)行反應。 

（2）物理反應（Physical reaction） 

主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著(zhù)材料表面的原子打掉，由于離子在壓力較低時(shí)的平均自由基較輕長(cháng)，有得能量的累積，因而在物理撞擊時(shí)，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應為主時(shí)，就必須控制較的壓力下來(lái)進(jìn)行反應，這樣清洗效果較好，為了進(jìn)一步說(shuō)明各種設備清洗的效果。 
等離子體清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。 
等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現整體和局部以及復雜結構的清洗。 
等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：容易采用數控技術(shù)，自動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。 等離子清洗機的清洗分類(lèi)： 1 反應類(lèi)型分類(lèi) 
等離子體與固體表面發(fā)生反應可以分為物理反應（離子轟擊）和化學(xué)反應。物理反應機制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走；化學(xué)反應機制是各種活性的粒子和污染物反應生成易揮發(fā)性的物質(zhì)，再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。 以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應，清潔表面不會(huì )留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性，腐蝕作用各向異性；缺點(diǎn)就是對表面產(chǎn)生了很大的損害，會(huì )產(chǎn)生很大的熱效應，對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低。以化學(xué)反應為主的等離子體清洗的優(yōu)點(diǎn)是清洗速度較高、選擇性好、對清除有機污染物比較有效，缺點(diǎn)是會(huì )在表面產(chǎn)生氧化物。和物理反應相比較，化學(xué)反應的缺點(diǎn)不易克服。并且兩種反應機制對表面微觀(guān)形貌造成的影響有顯著(zhù)不同，物理反應能夠使表面在分子級范圍內變得更加“粗糙”，從而改變表面的粘接特性。還有一種等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學(xué)反應都起重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應；其效果是既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。 典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過(guò)離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等

離子體清洗。通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。 2 激發(fā)頻率分類(lèi) 
等離子態(tài)的密度和激發(fā)頻率有如下關(guān)系： nc=1.2425×108v2  
其中nc為等離子態(tài)密度（cm-3），v為激發(fā)頻率（Hz）。 常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。